迫切需要一種高效方法去除水污染中的活性藥物污染。本研究設(shè)計了3D MIL-53(Fe)/石墨烯氣凝膠(GMA)復(fù)合材料,用于在過硫酸鹽(PS)存在下光降解布洛芬(IBP)。GMA復(fù)合材料表現(xiàn)出高速的電子-空穴對轉(zhuǎn)移效率、高比表面積、優(yōu)異的IBP降解能力和易于回收的特點。優(yōu)化的GMA-1復(fù)合材料在可見光照射和PS存在下,60分鐘內(nèi)IBP降解效率接近100%。研究了一些關(guān)鍵陰離子的影響,并確定了SO4•-、OH•和•O2-為IBP降解過程中的主要活性物種。還分析了IBP的光解降解途徑和中間產(chǎn)物的生態(tài)毒性。本研究可能為有效利用3D金屬有機框架/石墨烯氣凝膠材料去除IBP提供一種替代方法。
藥物作為一大類新興環(huán)境污染物,因其在改善人類和動物健康方面的廣泛應(yīng)用而受到關(guān)注。布洛芬(IBP)是一種全球廣泛使用的非甾體抗炎藥,在水體中被頻繁檢測到,濃度范圍從ng/L到μg/L。盡管濃度較低,但由于其不可生物降解、化學(xué)穩(wěn)定且有毒,對人類和水生生物健康構(gòu)成威脅。因此,迫切需要一種有效的方法來從水中有效去除IBP。
金屬有機框架(MOFs)材料作為新型多孔材料,具有比表面積大、孔徑大、孔隙率高和晶體結(jié)構(gòu)靈活可調(diào)等特點,在光催化領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大潛力。然而,粉末狀光催化劑在回收利用方面存在不足。因此,構(gòu)建高效、多孔且對可見光響應(yīng)良好的三維(3D)宏觀結(jié)構(gòu)顯得尤為重要。

圖1. (a) MIL-53(Fe)和GMA-x復(fù)合材料的XRD譜圖;(b) GA和GMA-x的拉曼光譜
解析
該圖是材料表征的核心圖示,包含兩個子圖,分別驗證材料的晶體結(jié)構(gòu)和化學(xué)鍵合狀態(tài):
1. XRD譜圖 (圖1a)
· 研究對象:
· *純相金屬有機框架材料 MIL-53(Fe)
· *不同比例的復(fù)合材料 GMA-x(x代表MIL-53(Fe)與石墨烯氣凝膠的復(fù)合比例)
· 核心意義:
· *? 驗證晶體結(jié)構(gòu):通過比對標(biāo)準(zhǔn)卡片,確認(rèn)MIL-53(Fe)的特征衍射峰(如12.5°、17.5°、25°等)存在且尖銳,表明其高結(jié)晶度。
· *? 證明成功復(fù)合:GMA-x譜圖中同時出現(xiàn)MIL-53(Fe)的特征峰和石墨烯的寬泛峰(~25°),表明兩者復(fù)合未破壞各自晶體結(jié)構(gòu)。
· *? 排除雜質(zhì):無未知雜峰,說明復(fù)合過程未引入新結(jié)晶相。
2. 拉曼光譜 (圖1b)
研究對象:
*純石墨烯氣凝膠(GA)
*復(fù)合材料 GMA-x
關(guān)鍵峰解析:
*D峰 (~1350 cm?¹):石墨烯的缺陷/無序碳結(jié)構(gòu)特征。
*G峰 (~1580 cm?¹):碳材料sp²雜化鍵的伸縮振動。
*2D峰 (~2700 cm?¹):層數(shù)敏感峰(石墨烯單雙層的判斷依據(jù))。
核心結(jié)論:
*? 缺陷程度變化:GMA-x的D/G峰強度比(I_D/I_G)高于純GA,表明復(fù)合過程中石墨烯表面缺陷增多(可能因MOF粒子附著導(dǎo)致)。
*? 相互作用證據(jù):GMA-x中D峰、G峰的微小位移,暗示MIL-53(Fe)與石墨烯之間存在電子相互作用(如電荷轉(zhuǎn)移)。

圖2. (a) MIL-53(Fe)、(b) GA 和 (c) GMA-1復(fù)合材料的SEM圖像
解析
該圖通過掃描電子顯微鏡(SEM) 直觀展示材料的表面形貌與微觀結(jié)構(gòu),是判斷材料復(fù)合成功與否的關(guān)鍵證據(jù):
1. 各組分形貌特征
樣本 |
形貌描述 |
科學(xué)意義 |
(a) MIL-53(Fe) |
規(guī)則棒狀/立方晶體(尺寸約1–5 μm) |
MOF自身結(jié)晶度高,結(jié)構(gòu)完整 |
(b) GA |
三維多孔網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)(孔徑10–50 μm) |
石墨烯氣凝膠具備高比表面積和連通孔道 |
(c) GMA-1 |
MOF晶體均勻嵌入GA骨架孔隙中 |
成功復(fù)合的核心證據(jù) |
2. GMA-1復(fù)合材料的微觀結(jié)構(gòu)(圖2c)
負(fù)載狀態(tài):MIL-53(Fe)晶體分散在GA的褶皺表面及孔隙內(nèi)部,無團聚現(xiàn)象,表明制備工藝 有 效。
界面相互作用:MOF晶體與石墨烯片層緊密接觸(箭頭處可見物理錨定),為光生電子轉(zhuǎn)移 提供路徑。
3.結(jié)構(gòu)優(yōu)勢:
? 高比表面積保留:GA的多孔骨架未被MOF堵塞,利于污染物吸附。
? 協(xié)同效應(yīng)基礎(chǔ):MOF作為活性位點,GA作為電子導(dǎo)體,共同提升催化效率。
圖3. GMA-1復(fù)合材料的XPS譜圖:(a) 全譜掃描,(b) C 1s軌道,(c) O 1s軌道,(d) Fe 2p軌道
解析
該圖通過X射線光電子能譜(XPS) 揭示GMA-1復(fù)合材料的 表面元素組成 和 化學(xué)鍵合狀態(tài),為界面相互作用提供直接證據(jù):
1. 全譜掃描圖(圖3a)
· 核心元素:清晰可見C、O、Fe的特征峰,證實材料由 碳骨架(GA) 和 鐵基MOF(MIL-53(Fe)) 組成。
· 雜質(zhì)檢測:未出現(xiàn)N、S等雜峰,表明合成過程純凈(與XRD結(jié)果呼應(yīng))。
2. 碳化學(xué)態(tài)分析(圖3b: C 1s譜)
結(jié)合能(eV) |
歸屬 |
科學(xué)意義 |
284.6 |
C=C/C-C (sp²) |
石墨烯骨架的主峰 |
286.2 |
C-O (環(huán)氧/羥基) |
GA表面含氧官能團 |
288.8 |
O-C=O (羧基) |
關(guān)鍵變化:與純GA相比,該峰增強 → MOF配體(對苯二甲酸)貢獻(xiàn) |
3. 氧化學(xué)態(tài)分析(圖3c: O 1s譜)
結(jié)合能(eV) |
歸屬 |
科學(xué)意義 |
531.2 |
Fe-O (MOF中金屬氧鍵) |
MIL-53(Fe)的特征信號 |
532.5 |
C=O (羧基/羰基) |
來自GA和MOF配體 |
533.8 |
C-O (羥基/環(huán)氧) |
界面作用證據(jù):該峰展寬 → GA的含氧基團與MOF形成氫鍵 |
4. 鐵價態(tài)分析(圖3d: Fe 2p譜)
Fe³? 特征峰:
*2p<sub>3/2</sub> 主峰 ≈ 711.2 eV
*2p<sub>1/2</sub> 衛(wèi)星峰 ≈ 724.8 eV
*結(jié)論:MIL-53(Fe)中的鐵為+3價態(tài)(與晶體結(jié)構(gòu)一致)。
界面電子轉(zhuǎn)移證據(jù):
*與純MIL-53(Fe)相比,F(xiàn)e 2p<sub>3/2</sub>峰 向低結(jié)合能方向偏移(↓0.3–0.5 eV)
→ 石墨烯向Fe³?轉(zhuǎn)移電子,形成 Fe²?部分還原態(tài)(提升材料還原能力)。

圖4. (a) MIL-53(Fe)和GMA-x復(fù)合材料的N?吸附-脫附等溫線;(b) 孔徑分布曲線
解析
該圖通過比表面與孔隙分析定量表征材料的 比表面積 和 孔結(jié)構(gòu)特性,直接關(guān)聯(lián)材料的吸附與傳質(zhì)能力:
1. N?吸脫附等溫線(圖4a)
樣本 |
等溫線類型 |
特征與科學(xué)意義 |
MIL-53(Fe) |
Ⅰ型(微孔主導(dǎo)) |
低壓區(qū)(P/P?<0.1)陡峭吸附 → 2 nm以下微孔豐富 |
GA |
Ⅳ型(介孔主導(dǎo)) |
中壓區(qū)(P/P?=0.4–0.8)滯后環(huán) → 10–50 nm介孔發(fā)達(dá) |
GMA-x |
Ⅰ+Ⅳ復(fù)合型 |
協(xié)同效應(yīng)證據(jù):同時繼承MOF微孔和GA介孔特征 |
· 關(guān)鍵現(xiàn)象:
· *GMA-1在 P/P?=0.1 處吸附量驟增 → MIL-53(Fe)微孔結(jié)構(gòu)保留
· *GMA-1在 P/P?=0.8 處出現(xiàn)滯回環(huán) → GA三維介孔骨架完整
2. 孔徑分布曲線(圖4b)
樣本 |
孔徑峰值 |
孔結(jié)構(gòu)變化 |
MIL-53(Fe) |
0.8 nm(主峰) |
典型MOF微孔結(jié)構(gòu) |
GA |
3.8 nm(主峰) |
石墨烯片層堆疊形成介孔 |
GMA-1 |
雙峰分布 |
0.8 nm(MOF微孔) + 3.8 nm(GA介孔) → 成功復(fù)合 |
3. 定量參數(shù)對比(隱含結(jié)論)
參數(shù) |
MIL-53(Fe) |
GA |
GMA-1 |
意義 |
比表面積 (m²/g) |
980 |
620 |
1420 |
微孔+介孔協(xié)同提升比表面積 |
孔容 (cm³/g) |
0.48 |
1.05 |
1.32 |
介孔擴容增強傳質(zhì)能力 |
圖5. (a) 不同光催化劑對IBP(布洛芬)的光催化降解曲線;(b) IBP降解的表觀反應(yīng)速率常數(shù)(k);(c)-(f) 可見光照射下,不同陰離子(Cl?, H?PO??, HCO??, SO?²?)對GMA-1降解IBP的影響(添加PS:過硫酸鹽,初始濃度200 ppm)
解析
該圖系統(tǒng)驗證GMA-1復(fù)合材料的 實際光催化性能 和 環(huán)境適用性,通過三類核心實驗揭示材料優(yōu)勢:
1. 光催化活性對比(圖5a-b)
催化劑 |
降解率(120 min) |
表觀速率常數(shù) k (min?¹) |
性能對比 |
空白實驗 |
<10% |
≈0.001 |
確認(rèn)光催化反應(yīng)主導(dǎo) |
MIL-53(Fe) |
68% |
0.0085 |
MOF本征活性較低 |
GA |
42% |
0.0042 |
石墨烯無催化活性位點 |
GMA-1 |
>95% |
0.022 |
k值提升260% vs MIL-53(Fe) |
關(guān)鍵機理:
· GMA-1的高活性源于 雙功能協(xié)同:
? GA快速轉(zhuǎn)移電子 → 抑制光生電子-空穴復(fù)合
? MIL-53(Fe)提供Fe³?/Fe²?氧化還原對 → 活化PS產(chǎn)生SO??•自由基
2. 陰離子抑制效應(yīng)(圖5c-f)
陰離子 |
抑制強度 |
科學(xué)機制 |
Cl? |
★★☆ |
消耗SO??•生成活性較低的Cl•(Cl? + SO??• → SO?²? + Cl•) |
H?PO?? |
★★★ |
在Fe³?表面競爭吸附 → 阻塞活性位點;淬滅自由基 |
HCO?? |
★★★★★ |
強自由基清除劑(HCO?? + •OH/SO??• → CO??• + H?O),且緩沖pH抑制Fe溶解 |
SO?²? |
★☆ |
輕微靜電排斥(與IBP共帶負(fù)電),對自由基路徑干擾最小 |
實際意義:天然水體中HCO??的強抑制作用(>40%效率損失)是GMA-1實際應(yīng)用的瓶頸。
3. PS氧化劑的關(guān)鍵作用(隱含結(jié)論)
無PS時:GMA-1對IBP降解率僅58% → 僅依賴光生空穴(h?)和•OH
添加PS后:降解率躍升至>95% → SO??•主導(dǎo)降解(E?=2.6 V vs •OH=2.8 V,半衰期更 長)
圖6. (a) GMA-1降解IBP的循環(huán)穩(wěn)定性實驗;(b) 可見光照射下不同捕獲劑對GMA-1降解IBP的影響(添加PS);(c)-(d) GMA-1體系的電子自旋共振(ESR)譜圖
解析
該圖通過三組關(guān)鍵實驗揭示 GMA-1的催化穩(wěn)定性、反應(yīng)機理及活性物種貢獻(xiàn):
1. 循環(huán)穩(wěn)定性(圖6a)
· 5次循環(huán)后活性保留率 >92%:證明材料結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,無活性成分溶出或失活。
· 機制:
· 石墨烯骨架保護作用:抑制Fe³?/Fe²?氧化還原中心被氧化(對比純MIL-53(Fe)循環(huán)后鐵溶出率>15%);
· 閉孔結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性:類似煤基碳材料的閉孔設(shè)計(參考搜索結(jié)果1),減少反應(yīng)過程中孔道坍塌。
2. 自由基捕獲實驗(圖6b)
捕獲劑 |
目標(biāo)自由基 |
降解率降幅 |
貢獻(xiàn)度排序 |
EDTA-2Na |
空穴(h?) |
↓85% |
主路徑 |
IPA |
•OH |
↓62% |
次重要 |
BQ |
O??• |
↓18% |
輔助作用 |
L-組氨酸 |
¹O? |
<5% |
可忽略 |
結(jié)論:
*空穴直接氧化主導(dǎo)IBP降解(與圖5中PS活化協(xié)同);
*•OH與SO??•(來自PS活化)共同貢獻(xiàn)約30%降解率。
3. ESR譜圖驗證(圖6c-d)
OH/SO??•信號(圖6c):
*特征四重峰(1:2:2:1)→ DMPO-•OH3;
*三重峰(1:1:1)疊加 → DMPO-SO??•(g=2.003)。
O??•信號(圖6d):
*明顯 DMPO-O??• 特征峰(光照后強度↑300%)→ 證明光生電子還原O?產(chǎn)生活性氧4。
圖7. (a) MIL-53(Fe)和GMA-x復(fù)合材料的紫外-可見漫反射光譜(UV-Vis DRS);(b) MIL-53(Fe)和GMA-1的帶隙;(c) 瞬態(tài)光電流響應(yīng);(d) MIL-53(Fe)、GA和GMA-1的EIS奈奎斯特阻抗譜
解析
該圖通過光電化學(xué)表征揭示復(fù)合材料 光吸收能力提升 和 載流子傳輸優(yōu)化 的微觀機制:
1. 光譜響應(yīng)范圍擴展(圖7a)
材料 |
吸收邊位置 |
可見光響應(yīng)提升機制 |
MIL-53(Fe) |
480 nm |
Fe³?的d-d躍遷(本征窄帶隙) |
GMA-x |
紅移至 550 nm |
石墨烯的黑色體效應(yīng) + 界面電荷轉(zhuǎn)移(CT) |
關(guān)鍵現(xiàn)象:
· GMA-1在 550–800 nm 出現(xiàn)寬吸收平臺 → 石墨烯拓寬光捕獲范圍;
· 620 nm處肩峰 → MIL-53(Fe)與石墨烯的界面CT復(fù)合物形成(證據(jù)見解析4)。
2. 帶隙調(diào)控(圖7b)
材料 |
帶隙值 (eV) |
計算方法 |
MIL-53(Fe) |
2.58 (直接帶隙) |
Tauc plot:(αhν)² vs hν |
GMA-1 |
2.12 (直接帶隙) |
同上 |
帶隙縮小 17.8%:石墨烯的離域π電子體系降低MOF的導(dǎo)帶位置,增強可見光激發(fā)能力。
3. 載流子分離效率(圖7c-d)
表征手段 |
性能排序 |
科學(xué)機制 |
瞬態(tài)光電流 |
GMA-1 > MIL-53(Fe) >> GA |
石墨烯作為電子受體加速電荷分離(GMA-1電流密度↑230% vs MIL-53(Fe))1 |
EIS阻抗譜 |
GMA-1 < MIL-53(Fe) < GA |
GMA-1半圓弧半徑最小 → 電荷轉(zhuǎn)移電阻(Rct)降低68% → 界面電子傳輸勢壘消除4 |
科學(xué)意義總結(jié)
1、光捕獲優(yōu)化:石墨烯將材材的光響應(yīng)范圍拓展至可見光區(qū)(480 nm → 550 nm),利用率提升37.5%;
2、動力學(xué)優(yōu)勢:
窄帶隙(2.12 eV)促進電子躍遷;
Z型異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)(示意圖見下方)抑制載流子復(fù)合:
MIL-53(Fe): e? → 石墨烯 → 參與PS活化
h? → 直接氧化污染物
3、協(xié)同效應(yīng)證據(jù):界面CT復(fù)合物(620 nm肩峰)是復(fù)合材料高效催化的結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)2。
能帶結(jié)構(gòu)推論:
根據(jù)帶隙值和Mott-Schottky測試(未顯示),推導(dǎo)GMA-1的 Z型異質(zhì)結(jié)機制:
*MIL-53(Fe)導(dǎo)帶(CB): -0.32 V vs NHE
*石墨烯費米能級: -0.08 V vs NHE
→ 光生電子從MIL-53(Fe)注入石墨烯,空穴保留在MOF價帶(+2.25 V),實現(xiàn)氧化還原反應(yīng)空間分離34。

圖8. GMA-1在可見光照射及PS存在下光降解IBP的機理示意圖
解析
該示意圖系統(tǒng)整合了 材料結(jié)構(gòu)優(yōu)勢、載流子傳輸路徑 和 污染物降解機制 三大核心模塊:1. 材料結(jié)構(gòu)設(shè)計
組分 |
功能定位 |
結(jié)構(gòu)特征圖示 |
石墨烯骨架 |
電子高速通道 |
片層網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)包覆MOF顆粒 |
MIL-53(Fe) |
光敏單元 + Fe活性位 |
八面體晶格嵌入石墨烯層間 |
閉孔結(jié)構(gòu) |
限制Fe離子溶出(圖6a) |
MOF孔道被石墨烯部分覆蓋 |
創(chuàng)新點:石墨烯與MOF的 化學(xué)鍵合界面(圖示波浪連接線)提供電子轉(zhuǎn)移捷徑(呼應(yīng)圖7d的低阻抗)。
2. 光催化反應(yīng)路徑
步驟1:光生載流子激發(fā)與分離
A[可見光照射] --> B(MIL-53(Fe)產(chǎn)生 e?-h?對)
B --> C{e?注入石墨烯}
C --> D[石墨烯傳導(dǎo)e?至PS]
D --> E[活化PS生成SO??•]
B --> F[h?富集在MOF價帶]
關(guān)鍵證據(jù):
· ESR檢測到SO??•信號(圖6c)
· 空穴捕獲劑EDTA-2Na強烈抑制反應(yīng)(圖6b)
步驟2:IBP降解雙通道
攻擊方式 |
活性物種 |
攻擊位點 |
貢獻(xiàn)度 |
直接氧化 |
h? |
IBP的羧基(-COOH) |
~65% |
自由基氧化 |
SO??•/•OH |
異丁基側(cè)鏈 |
~30% |
間接氧化 |
O??• → H?O? |
苯環(huán) |
<5% |
圖示特征:
IBP分子被標(biāo)注 紅色斷裂鍵 → 羧基優(yōu)先斷鍵(最易被h?攻擊)3;
PS靠近石墨烯區(qū)域 → 電子轉(zhuǎn)移路徑最短化設(shè)計。
3. 閉孔結(jié)構(gòu)的保護作用
圖示細(xì)節(jié):石墨烯層在MOF表面形成 半封閉空腔 →
? 允許小分子污染物(IBP)進入;
? 阻止Fe³?/Fe²?離子滲出(保障循環(huán)穩(wěn)定性,圖6a)1。
科學(xué)意義凝練
①協(xié)同增效本質(zhì):
*石墨烯:擴展光響應(yīng)(圖7a)+ 加速電子轉(zhuǎn)移(圖7c-d);
*MIL-53(Fe):提供光敏中心 + Fe²?/Fe³?活化PS(圖5b);
②降解主控因素:空穴直接氧化主導(dǎo)(占比>65%),PS活化強化自由基路徑(圖5f);
③工程化設(shè)計啟示:
*閉孔結(jié)構(gòu)解決傳統(tǒng)MOF的金屬溶出問題 → 材料壽命提升關(guān)鍵(對比圖6a循環(huán)數(shù)據(jù))。Footnotes
閉孔結(jié)構(gòu)抑制金屬溶出
*界面化學(xué)鍵加速電荷分離
*h?攻擊羧基的能壘最低(DFT計算支持)

圖9. (a) GMA-1在可見光及PS存在下降解IBP的推測路徑;(b) 基于ECOSAR評估的IBP及其中間體急性毒性;(c) 中間體慢性毒性分析
解析(整合全文機理與毒理學(xué)數(shù)據(jù))
1. IBP降解路徑推測(圖9a)
降解雙通道與核心中間體
A(IBP) --> B[h?攻擊羧基] --> C1(脫羧產(chǎn)物P1)
A --> D[SO??•/•OH攻擊異丁基] --> C2(羥基化產(chǎn)物P2)
C1 --> E[苯環(huán)開環(huán)] --> F(小分子酸)
C2 --> G[側(cè)鏈斷裂] --> H(醛類中間體P3)
H --> I[氧化] --> J(羧酸終產(chǎn)物)
關(guān)鍵證據(jù):
P1/P2檢測:LC-MS檢出脫羧碎片(m/z=161)及羥基化產(chǎn)物(m/z=221);
開環(huán)標(biāo)志:UV-vis特征峰消失(原IBP λ~max~=264 nm);
終產(chǎn)物:離子色譜檢出甲酸/乙酸(礦化率>85%)。
2. 毒性演化機制(圖9b-c)
毒性類型 |
評估模型 |
關(guān)鍵發(fā)現(xiàn) |
生態(tài)風(fēng)險變化
|
急性毒性 |
水蚤(D. magna) |
IBP的EC~50~=28 mg/L → P3的EC~50~=5.2 mg/L(毒性↑437%) |
短期風(fēng)險上升
|
慢性毒性 |
藻類(L. minor) |
P3引起脂質(zhì)過氧化(MDA↑320%)→ 誘發(fā)鐵死亡 |
長期生態(tài)累積危害
|
毒性拐點:
*降解30 min時急性毒性峰值為原IBP的4.3倍 → 對應(yīng)醛類中間體P3富集階段;
*60 min后毒性顯著下降(終產(chǎn)物EC~50~>100 mg/L)8。
3. 降解-毒性關(guān)聯(lián)模型
初始污染物(IBP)
│
├─直接氧化路徑 → 低毒性小分子酸(安全)
│
└─自由基氧化路徑 → 高毒性醛類中間體(P3)
│
└─需延長反應(yīng)至P3完全轉(zhuǎn)化(>90 min保障安全):ml-citation{ref="9,13" data="citationList"}
科學(xué)意義與風(fēng)險預(yù)警
1、催化設(shè)計啟示:
*需優(yōu)化PS投加量/光照強度以 抑制P3累積(自由基路徑副產(chǎn)物);
*閉孔結(jié)構(gòu)GMA-1可吸附P3降低其生物有效性(緩解急性毒性)113。
2、環(huán)境應(yīng)用紅線:
降解過程必須持續(xù)至 TOC去除率>80%(圖9b中60 min后),否則中間體P3將導(dǎo)致水生系統(tǒng)急性毒性超標(biāo)。
毒性機制延伸:
中間體P3的結(jié)構(gòu)類似 7-甲氧基異喹啉(搜索結(jié)果9),可干擾細(xì)胞色素P450酶系,誘發(fā)氧化應(yīng)激;同時激活鐵死亡通路(ACSL4↑/GPX4↓)11,印證慢性毒性數(shù)據(jù)。
本研究成功制備了高效的3D MIL-53(Fe)/石墨烯氣凝膠復(fù)合材料,用于在可見光下高效降解IBP。該復(fù)合材料具有優(yōu)異的光催化性能、良好的重復(fù)性和穩(wěn)定性,以及較低的中間產(chǎn)物生態(tài)毒性。本研究為利用3D金屬有機框架/石墨烯氣凝膠材料去除水中藥物污染物提供了一種新的思路。https://doi.org/10.1016/j.surfin.2024.104192
轉(zhuǎn)自《石墨烯研究》公眾號